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隨著光學鍍膜設備的技能開展不斷改造，而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向開展。變成現在公司選擇的鍍膜技能。今天咱們經過專家剖析后，給予具體作答。鍍膜機的正常操作辦法應當參閱操作手冊的指示操作。不過大致的操作程序，咱們簡略的說一下吧：1.查看光學鍍膜設備各操作操控開關是不是在"關"位置。2.翻開總電源開關，光學鍍膜設備送電。3.低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，發動升鐘罩閥，鐘罩升起。4.裝置固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在滾動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱...

隨著原子層沉積技術與其他先進技術不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術”、“空間式原子層沉積技術”、“流化床原子層沉積技術”等新型原子層沉積技術逐漸出現并在一定程度上有效解決了傳統熱原子層沉積技術所面臨的諸多難題。在過去二十多年，等離子體增強原子層沉積技術發展迅速。通過巧妙設計等離子體引入方式，人們已經設計出各種等離子體增強原子層沉積設備。從文獻報道來看，針對太陽能光伏領域的應用，一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片1...

我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能，今天我們來探討下等離子去膠機。等離子去膠機反應機理：在干法等離子去膠技術中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果，電離發生氧離子、游離態氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入恰當氧氣，堅持真空室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，在電極間發生淡紫色輝光放電，經過調理功率、流量等技術參數，可得不一樣去膠速...

微波等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污潮物、油污或油脂。今天，我們來看看微波等離子清洗機操作注意事項與應用吧。1、正確設置等離子設備的運行參數，按時設備使用說明書來執行。2、保護好等離子體的點火裝置，以確保等離子清洗機可以正常的啟動。3、等離子設備在啟動前的準備工作，要對相關的人員進行培訓，按照要求嚴格執行各項操作...

我們的優勢｜NRE-4000型RIE-HCP系統NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統，用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片，通過配套HCP高密度中空陰極等離子源，系統可以支持RIE和RIE-HCP應用，提供廣泛的應用。眾多的優勢配置，使得NRE-4000型系統具有許多優勢：?超高的薄膜均勻性?良好的粘附力?超凈的沉積（高真空支持）?出色的工藝控制?高度的可重復性（計算機全自動工藝控制）?易使用（可直接調用編好的工藝程序）?運行可靠（所有核心組件均帶有...

試驗真空環境模擬為了考核和研究某些活動部件、伸展機構的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空條件下的升華、重量損失、老化等效應，需要在更高的真空度和其他空間環境因素的組合下進行試驗。大家都知道現在真空系統在各個行業的應用越來越廣泛，下面我們為大家介紹一下現在常用的熱真空系統在熱真空試驗設備中的應用吧。熱真空系統應用于半導體、集成電路、光電器件的制造工藝過程，是集成電路設備中的關鍵設備之一；它也用于各種其它鍍膜設備和真空應用設備中。真空系統在熱真空系統中的應用熱真空系統是指在真空和一...

兆聲清洗機不僅保留了超聲波清洗的優點，而且克服了超聲波清洗的缺點。兆聲無損清洗機的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應和化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗。在清洗過程中，換能器發出的高能聲波波長為1m，頻率為0.8MHZ。在聲波的驅動下，溶液的分子運動得更快。瞬時速度可達30cm/s。因此，無法形成超聲清洗等氣泡。相反，兆聲清洗機只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進入清洗溶液中。經濟的發展，人們的生活水平不斷提高，對消費...

近些年以來，兆聲清洗機的發展非常迅速，無論是在工業清洗、市政工程清洗，還是民用清洗幾乎隨處可見高壓清洗機的應用。目前高壓清洗機占各種清洗設備比例的80%以上。所以，我們在選購高壓清洗機時，重要的是根據使用要求選擇合適的設備型號，從而到達降低成本、減少損失和浪費的目的。兆聲清洗機用于沖洗過濾液壓系統在制造、裝配、使用過程及維護時生成或侵入的污染物；也可以適用于對工作油液的定期維護過濾，提高清潔度，避免或減少因污染而造成的故障，從而保證液壓系統設備的高性能、高可靠度和長壽命。清洗...